1983年3卷1期

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PPS-2干膜润滑剂的研究
1983, 3(1).
[摘要](1611) [PDF 1191KB](1122)
摘要:
本文报导了以聚苯硫醚为粘结剂,二硫化钼为润滑剂的PPS-2干膜润滑剂。该干膜具有抗摩性好,化学稳定性高,最佳膜厚比一般干膜厚等特点。文中讨论了影响该膜耐磨性的几个因素和膜的摩擦磨损性能。齿轮试验表明,PPS-2干膜在极低温下的齿轮润滑试验时获得了满意的结果。

利用分子轨道理论研究石墨的润滑机理
1983, 3(1).
[摘要](1229) [PDF 225KB](976)
摘要:
利用EHMO分子轨道方法完成了石墨及石墨-吸附氢体系的分子轨道计算,确定了氢原子的最稳定吸附位置、氢原子与石墨之间的电荷转移、净电荷分布和吸附对石墨层间结合力的影响。正是这种层间结合力的变化使得在有气氛条件下石墨的润滑性能比真空环境下的有所改善。

国内外DU类材料的性能比较
1983, 3(1).
[摘要](877) [PDF 3356KB](843)
摘要:
作者对国内外13种由钢背、多孔青铜、填充PTFE表层三个联结层构成的金属塑料材料进行了表观状态、剖面显微结构、摩擦磨损和压缩形变等性能的分析和测试。结果表明,它们的表现状态、剖面显微结构各不相同,JS材料的耐磨寿命最长,线膨胀系数与DU材料的相近,压缩性能较差于DU材料。

热氧化聚乙烯作复铜钢压力冷加工润滑剂的研究
1983, 3(1).
[摘要](1101) [PDF 441KB](1270)
摘要:
作者考察了在聚乙烯热氧化反应中,不同反应时间、温度和催化剂用量对氧化产物的最大无卡咬负荷值P_B的影响。对氧化产物进行了红外光谱分析,查明了在产物中含有极性基团,在一定范围内P_B值随极性基团的增多而增大。 作者采用热氧化聚乙烯作复铜钢管件的引伸加工和复铜钢板的冷轧加工润滑剂。前者引伸了30万件以上产品,后者轧制了26吨产品的扩大试验,均取得了比较满意的结果。

干膜喷剂中无机润滑组分的综合分析方法
1983, 3(1).
[摘要](1144) [PDF 320KB](1286)
摘要:
干膜润滑剂是目前国内外广泛应用的一种润滑材料。其喷剂通常由固体润滑剂和低含量的粘结剂及大量的稀释剂所组成。有时还含有微量添加剂。其中固体润滑剂除少数属有机组分外,多数是无机化合物。为了解国外这类产品的组成,以及在国内开展新干膜润滑剂的研制,都需要建立一套分离分析方法。本文报导有关以有机物粘结的干膜喷剂中无机固体润滑组分的综合分析方法。

聚四氟乙烯在真空条件下的摩擦特性
1983, 3(1).
[摘要](1230) [PDF 396KB](1382)
摘要:
本文描述了一台专用的真空摩擦试验装置,并给出了真空度为10~(-3)托下,PTFE-花岗石、PTFE—镀铬铜和PTFE—钢球三种摩擦副材料的f-v实验曲线;给出了接触压力为不同数值时PTFE—花岗石的动、静摩擦系数,并比较了它们在大气和真空下的f—v曲线。试验结果表明,PTFE—花岗石的动、静摩擦系数之差是三种摩擦副中最低的,仅为0.02。而PTFE—镀铬铜的动摩擦系数最低(0.067),但其动、静摩擦系数之差最大。故选用PTF正-花岗石作为真空中低速、低负荷工作台导轨面材料有可能收到减小低速爬行的效果。

MC尼龙基新型自润滑轴承已通过鉴定并正式生产
1983, 3(1).
[摘要](1369) [PDF 76KB](1078)
摘要:
橡胶厂开放式炼胶机辊筒轴承过去沿用铸青铜,轴承经常在低速高负荷条件下工作。由于密封圈磨损后严重漏油,致使润滑不良而经常发生抱轴事故,严重时一个星期报废一套轴瓦,炼胶机实际上无法工作。大同橡胶厂与西安市雁塔区尼龙制品厂试制成功MC尼龙基新型自润滑轴承,在XK-560开放式炼胶机上安装运转一年以上,证明这种自润滑轴承温升低,可满负荷运行,电流消耗小,消灭了抱轴事故。

固体润滑膜的滚压涂敷工艺之研究
1983, 3(1).
[摘要](1311) [PDF 198KB](1361)
摘要:
本文介绍了一种可在装配好的或形状复杂的机器部件(滚动轴承或齿轮等)摩擦表面上涂敷一层固体润滑膜的简便方法。作者对成膜工艺条件进行了选择,并给出了这一工艺的应用实例。

用XPS对银基自润滑复合材料摩擦磨损特性的考察
1983, 3(1).
[摘要](1025) [PDF 1848KB](1446)
摘要:
作者用X-射线光电子能谱(XPS)考察了几种制备工艺对银比二硫化钼为90比10的自润滑复合材料表面的硫、钼、银等化学元素的价态的影响,并用XPS和光学显微镜重点考察了不同温度下的上述自润滑复合材料与两种对摩偶件的摩擦、磨损特性。结果表明:对摩偶件摩擦面上的转移膜的固体润滑剂中钼的价态变化是影响该自润滑复合材料摩擦磨损特性的主要因素。

空心阴极离子镀及其在工具工业中的应用(续)
1983, 3(1).
[摘要](853) [PDF 626KB](1207)
摘要:
七、HCD铬厚膜的性质 1.铬膜表面的观察 在改变基片电压的情况下,用HCD法将铬沉积在纯的多晶铁基片上。该膜的表面形貌采用扫描电子显微镜(SEM)进行观察。为了在观察膜表面的同时可观察膜的断裂面,以便估算膜的厚度,所以将样品弄弯到膜层断裂后进行观察。所观察的六个样品的镀膜条件为:基片温度20℃,沉积率0.2微米/分钟,基片电压分别为0伏、-10伏、-25伏、-50伏、

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