十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究

ISSN 1004-0595

CN 62-1224/O4

十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报, 2002, 22(5): 399-401.

引用本文:

十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报, 2002, 22(5): 399-401.

Preparation and Nanotribological Behavior of Octadecene Reaction Film on Single Crystal Silicon Substrate[J]. TRIBOLOGY, 2002, 22(5): 399-401.

Citation:

Preparation and Nanotribological Behavior of Octadecene Reaction Film on Single Crystal Silicon Substrate[J]. TRIBOLOGY, 2002, 22(5): 399-401.

Preparation and Nanotribological Behavior of Octadecene Reaction Film on Single Crystal Silicon Substrate

摘要: 通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜 ,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性 .结果表明 ,在紫外光照射下 ,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜 ,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦

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