ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究[J]. 摩擦学学报, 2007, 27(3): 199-203.
引用本文: 硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究[J]. 摩擦学学报, 2007, 27(3): 199-203.
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Preparation and Tribological Behavior of a Self-assembled Dual Layer Film on Silicon[J]. TRIBOLOGY, 2007, 27(3): 199-203.
Citation: Preparation and Tribological Behavior of a Self-assembled Dual Layer Film on Silicon[J]. TRIBOLOGY, 2007, 27(3): 199-203.
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硅表面自组装双层膜制备及其摩擦磨损性能研究

Preparation and Tribological Behavior of a Self-assembled Dual Layer Film on Silicon

    摘要
  • 摘要: 采用自组装方法在羟基化硅基底表面制备硬脂酸/环氧硅烷双层膜,采用接触角测定仪、椭圆偏光仪、红外光谱仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜和UMT-2MT型摩擦磨损试验机评价薄膜结构及其摩擦磨损特性.结果表明:自组装双层膜对水的接触角为96°,膜厚2.8 nm,双层膜中烷基链呈现较好有序性,在1 μm×1 μm扫描面积内表面均方根粗糙度(RMS)为0.227 nm.自组装硬脂酸/环氧硅烷双层膜能够有效降低基底的摩擦系数,摩擦系数稳定在0.12左右,同时表现出优异承载抗磨性能,在载荷0.5 N、1 N和2 N下,耐磨寿命分别为14 200 s以上、7 500 s和1 800 s.

     

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