ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)[J]. 摩擦学学报, 1983, 3(2).
引用本文: 空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)[J]. 摩擦学学报, 1983, 3(2).

空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)

  • 摘要: 十、HCD反应沉积的氮化钛膜 HCD反应沉积氮化钛膜的镀膜条件可反映所镀氮化钛膜的色泽特征,如佐藤等人通过控制N_2、H_2的分压得到了各种颜色的膜。金色的膜经X线衍射分析可知是由Ti_2N或TiN+Ti_2N组成的。这种膜的硬度大于或等于2000公斤/毫米~2(DPHN)。 该膜的镀膜典型参数如下:氩气流为23厘米~3/分(标准温度、压强),氩分压为7.4×10~(-4)托,放电参数为40伏、80安培,靶距为14厘米,膜的典型沉积率为0.25微米/分。氮气

     

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