ISSN   1004-0595

CN  62-1095/O4

高级检索
离子束增强沉积制备Cr—N薄膜及其摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报, 1998, 18(2): 113-118.
引用本文: 离子束增强沉积制备Cr—N薄膜及其摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报, 1998, 18(2): 113-118.
Characterizations and Tribological Performance of Cr N Coating by IBED[J]. TRIBOLOGY, 1998, 18(2): 113-118.
Citation: Characterizations and Tribological Performance of Cr N Coating by IBED[J]. TRIBOLOGY, 1998, 18(2): 113-118.

离子束增强沉积制备Cr—N薄膜及其摩擦学性能研究

Characterizations and Tribological Performance of Cr N Coating by IBED

  • 摘要: 利用离子束增强沉积(IBED)技术制备了Cr-N薄膜,并对不同能量氮离子轰击所制备的薄膜组成进行了X射线衍射及光电子能谱分析,测定了涂层的断裂性值,并对涂层的摩擦学性能进行了研究。结果表明:在相同试验条件下,氮离子轰击能量影响Cr-N薄膜的相组成及取向,采用低能量氮离子轰击所得到的薄膜具有较高的断裂韧性和优异的耐磨性能。

     

/

返回文章
返回