ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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热处理对GeSb2Te4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响[J]. 摩擦学学报, 2006, 26(2): 108-112.
引用本文: 热处理对GeSb2Te4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响[J]. 摩擦学学报, 2006, 26(2): 108-112.
Effect of Heat-treatment on Microstructure and Frictional Properties of GeSb2Te4 Thin Films[J]. TRIBOLOGY, 2006, 26(2): 108-112.
Citation: Effect of Heat-treatment on Microstructure and Frictional Properties of GeSb2Te4 Thin Films[J]. TRIBOLOGY, 2006, 26(2): 108-112.

热处理对GeSb2Te4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响

Effect of Heat-treatment on Microstructure and Frictional Properties of GeSb2Te4 Thin Films

  • 摘要: 利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,热处理前后GeSb2Te4薄膜的粘附力和摩擦性能.结果表明:经过退火的沉积态GeSb2Te4薄膜发生从非晶相到fcc亚稳相再到hex稳定相转变;粘附力与表面粗糙度之间没有明显的对应关系,但与样品表面自由能和表面电势有一定关系;在低载荷下GeSb2Te4薄膜的摩擦力很大程度上受粘附力支配,而在高载荷下的摩擦力受犁沟影响显著;经过340 ℃退火GeSb2Te4薄膜由于具有层状结构,呈现出一定的润滑作用.

     

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