ISSN   1004-0595

CN  62-1224/O4

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Ti/Ni过渡层对WS2薄膜摩擦学性能影响[J]. 摩擦学学报, 2009, 29(2).
引用本文: Ti/Ni过渡层对WS2薄膜摩擦学性能影响[J]. 摩擦学学报, 2009, 29(2).
shu
Effects of Ti/Ni Transition Layers on Frictional Behavior of Tungsten Disulfide Thin Film[J]. TRIBOLOGY, 2009, 29(2).
Citation: Effects of Ti/Ni Transition Layers on Frictional Behavior of Tungsten Disulfide Thin Film[J]. TRIBOLOGY, 2009, 29(2).
shu

Ti/Ni过渡层对WS2薄膜摩擦学性能影响

Effects of Ti/Ni Transition Layers on Frictional Behavior of Tungsten Disulfide Thin Film

    摘要
  • 摘要: 采用射频溅射法,通过预先制备Ti和Ni 2种过渡层的工艺在3Cr13马氏体不锈钢基片上制备了硫化钨薄膜,通过与无过渡层的射频溅射WS2薄膜对比,研究了2种过渡层对薄膜性能的影响.3种样品的物相分析,表面形貌观察,微区化学成分测定,膜基结合力和薄膜摩擦系数测试等结果表明,Ti过渡层对硫化钨薄膜结构和S/W原子比没有明显的影响,对膜层的摩擦系数影响也不大,但薄膜耐磨性有所提高.而Ni过渡层虽对S/W原子比无明显影响,但却明显地提高薄膜Ⅱ型织构(基面取向)的强度,从而降低了薄膜的摩擦系数,提高了薄膜耐磨性.

     

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